使(shi)用真(zhen)空爐(lu)，進一步來講，其核心(xin)技術就是(shi)真空(kong)滲碳(tan)技術(shu)，也被業界的人士稱(cheng)爲低壓滲(shen)碳技(ji)術，英文簡(jian)稱(cheng)爲lpc。也就是說，在這(zhe)樣的一個(ge)過程(cheng)中，乙炔被引入到(dao)熱(re)區的(de)溫度，通常它的溫度(du)是：1600華氏溫(wen)度和(he)1950華氏溫(wen)度(du)，在這個過程中，可以把乙(yi)炔引(yin)入到熱區(qu)的溫(wen)度，通常在1600華氏溫度(du)和(he)1950華氏溫(wen)度的分壓。可以将它的(de)組成溫(wen)度斷開，也就是把(ba)碳、氫(qing)這兩種(zhong)元素斷開。通常(chang)來講(jiang)，真空爐的(de)表面面(mian)積(ji)的碳原子可(ke)以實現(xian)大(da)量(liang)的增長。        真(zhen)空爐這樣的(de)功(gong)能通(tong)常會重複(fu)，可以采(cai)取油、高壓氣體，使用氮(dan)或氦進行(hang)更加(jia)快速的淬火誘導，通(tong)常(chang)我們也(ye)可以把(ba)這(zhe)個過(guo)程稱作表面硬化。